Câu ví dụ
- thêm câu ví dụ: 1 2
- Intel will use a new material with a property called high-k for the transistor gate dielectric, and a new combination of metal materials for the transistor gate electrode.
Intel sẽ sử dụng một vật liệu mới với tên gọi là high-k, cho chất điện môi cổng bóng bán dẫn, và một sự kết hợp mới gồm những vật liệu kim loại cho điện cực cổng bóng bán dẫn. - The company will use a new material with a property called high-k, for the transistor gate dielectric, and a new combination of metal materials for the transistor gate electrode.
Intel sẽ sử dụng một vật liệu mới với tên gọi là high-k, cho chất điện môi cổng bóng bán dẫn, và một sự kết hợp mới gồm những vật liệu kim loại cho điện cực cổng bóng bán dẫn. - Because the high-k gate dielectric is not compatible with today’s silicon gate electrode, the second part of Intel’s 45nm transistor material recipe is the development of new metal gate materials.
Do điện môi cổng high-k không tương thích với điện cực cổng silicon hiện nay, phần thứ hai trong công thức vật liệu bóng bán dẫn 45nm của Intel là sự phát triển của các vật liệu cổng kim loại mới. - The combination of the high-k gate dielectric with the metal gate for Intel’s 45nm process technology provides more than a 20 percent increase in drive current, or higher transistor performance.
Sự kết hợp của điện môi cổng high-k với cổng kim loại cho công nghệ xử lý 45nm của Intel mang lại sự tăng cường hơn 20% trong việc thúc đẩy dòng điện hay còn gọi là hiệu suất hoạt động của bóng bán dẫn cao hơn. - Transistor gate leakage associated with the ever-thinning silicon dioxide gate dielectric is recognized by the industry as one of the most formidable technical challenges facing Moore’s Law.
Sự dò rỉ cổng bóng bán dẫn đi kèm với điện môi cổng silicon dioxide ngày càng mỏng hơn đã được ngành công nghiệp ghi nhận như là một trong những thách thức kỹ thuật khó khăn nhất mà Định luật Moore phải đối mặt.
